三星宣推 17LPV 17nm 工艺 : 或带来 49% 能效提升

三星宣推 17LPV 17nm 工艺 : 或带来 49% 能效提升

今天，三星宣布推出全新的 17LPV 17nm 工艺，意为 Low Power Value。

事实上，其是 28nm 工艺的进化版，融合了 28nm BEOL 后端工序、14nm FEOL 前端工序，也就是在 28nm 节点的基础上，加入了 14nm FinFET 立体晶体管，可以低成本享受后者的能效优势。

三星表示，17nm LPV 工艺相比传统 28nm，芯片面积可缩小 43％，可以带来 39％的性能提升或者 49％的能效提升。

三星 17nm LPV 工艺量产时间没有说明，但三星已经公布了第一个服务对象是 ISP 图像信号处理器，属于三星自己的 CMOS 传感器产品线。

此外，三星还建造了 14nm LPU 工艺，意味 Low Power Ultimate，但没有透露细节。也可能是 28 纳米 BEOL 加 14 纳米 FEOL。