全球首款 1 纳米以下制程光刻机：线宽只有两个原子

机器之心报道

编辑：泽南、小舟

全球精度最高的光刻系统，线宽小到只有 0.768 纳米。

台积电的 2 纳米制程工艺计划会在 2025 年量产，再往后的高端芯片制造将会朝着什么方向发展？最近，已有实验室提出不到一纳米的硅芯片制造方式了。

上周，美国公司 Zyvex Labs 宣布推出世界上分辨率最高的光刻系统—— ZyvexLitho1，该工具使用量子物理技术来实现原子精度的电路打印和亚纳米（768 皮米—— Si100 2 × 1 二聚体行宽度）分辨率。这一进步可能会让量子计算机能够为真正安全实用的通信方式，推动更快的药物发现以及更准确的天气预报。

与当前 ASML 等公司提供的 EUV、DUV 方式不同，ZyvexLitho1 基于扫描隧道显微镜 ( STM ) 仪器，自 2007 年以来 Zyvex Labs 一直在改进相关设备。ZyvexLitho1 结合了许多商业扫描隧道显微镜所不具备的自动化特性和功能。

它使用一种称为氢去钝化光刻技术的方法工作，这是一种电子束光刻技术（EBL），可实现原子级的分辨率。据介绍，该机器的用途包括为基于量子点的量子比特制作极其精确的结构，以实现最高的量子比特质量。该产品同时也可用于其他非量子相关应用，例如构建用于生物医学和其他化学分离技术的纳米孔膜，其缺点是吞吐量非常低。

因此，尽管它可能适用于小批量量子处理器芯片的制造，但目前对于大批量消费电子产品来说并不是一个好的解决方案。